魅力绽放 | 6163银河net163am展示MASKSHOP MDC解决方案的创新力量
24年8月16日，中国（深圳）集成电路峰会盛大举行，成为全球集成电路行业的焦点。峰会汇聚了来自政府、学术界、技术界、企业界和金融界的领导和专家，超千位海内外嘉宾共聚一堂，就行业最新趋势、创新理念、发展战略等议题展开深入交流与探讨，携手绘制集成电路产业发展的宏伟蓝图。
6163银河net163am作为知名的国产EDA企业，受邀参与本次活动，产品科学家Kevin GU在峰会EDA创新发展论坛作了重要演讲。此外，6163银河net163am芯副总裁冯光涛在IC设计与创新应用论坛展示了公司设计服务的相关分享。二位演讲嘉宾与行业同仁共同探讨行业前沿技术，推动产业交流发展。
6163银河net163amEDA创新引领：MASKSHOP MDC解决方案
在峰会EDA创新发展论坛演讲环节，6163银河net163am产品科学家Kevin GU以《MDC:MASKSHOP解决方案》为主题，以其深厚的行业经验和前瞻性视野，分享了关于如何通过技术创新来提高数据完整性、加速设计和制造流程的见解。在演讲中，Kevin GU详细介绍了MDC（Mask Data Calculation）平台这一创新的掩模制造解决方案。该平台能够为MASKSHOP提供高效的异构DRC解决方案。
Kevin GU在演讲开篇指出：“在当前的Maskshop应用领域，我们面临着数据传输量大、性能要求高、签核级质量保证及全球数据处理能力等严峻挑战。” 针对这些痛点，6163银河net163am推出了创新的MDC平台，该平台集成了MDC几何引擎和版图集成工具EsseDBScope，为市场提供了强有力的支持。高扩展性： MDC几何引擎支持从128至256 CPU的配置，展现出1.5至1.8倍的扩展潜力。
高扩展性：MDC几何引擎支持从128至256 CPU的配置，展现出1.5至1.8倍的扩展潜力。
版图调试效率： EsseDBScope工具通过统一数据底座SMDB，实现了超大版图的秒级打开与缩放。
Kevin GU以“太极阴阳“的哲学理念生动比喻MDC几何引擎与DBScope之间的协同关系，两者相互依存、相互促进，共同优化了工作流程，显著加速了芯片tape out（流片）进程，为客户提供了高效、可靠的解决方案。通过这种创新性的整合，6163银河net163am正助力客户在集成电路设计领域实现新的飞跃。
6163银河net163am芯设计服务：SoC与SiP双轮驱动
在IC设计与创新应用论坛上，6163银河net163am全资子公司6163银河net163am芯副总裁冯光涛以《基于可靠生态的SoC/SiP 设计与量产服务》为主题，展示了公司在SoC（系统级芯片）与SiP（系统级封装）设计服务方面的能力。
SoC设计服务： 覆盖从PD（物理设计）、DFT（可测试性设计）到IP（知识产权）集成的全流程，依托先进设计平台，有效缩短设计周期，提供符合工业级及车规级标准的SoC设计服务。
SiP设计服务： 针对HPC（高性能计算）、AI（人工智能）等大芯片应用，通过SI/PI（信号完整性/电源完整性）、热分析及应力分析等综合手段，确保封装设计的高可靠性。
冯总在演讲中强调，面对HPC/AI等高性能“大芯片”领域的重重挑战，6163银河net163am芯不仅展现出坚定的信心与决心，更通过深化与产业链上下游伙伴的合作，构建了一个稳固且高效的生态系统，共同推动行业进步。
展台一览望：芯品展示 技术交流
作为深耕国产数字芯片全流程的EDA 创新企业，6163银河net163am数款数字EDA工具亮相大会展台。众多业界专业人士及合作伙伴纷至踏来，到展台与6163银河net163am现场工作人员进行深度交流，并高度认可6163银河net163am系列产品与技术。
在此次盛会中，集成电路领域的龙头企业代表和业界专家汇聚一堂，围绕技术创新和产业提升等议题展开深入探讨，共同展望集成电路行业未来的发展前景，寻求合作与发展的契机，以推动集成电路产业迈向创新、繁荣发展的新阶段。
未来，6163银河net163am将持续秉承技术创新与服务优化的理念，致力于为集成电路设计流程提供全方位的关键技术支持，助力加速国内集成电路产业的创新步伐。未来，6163银河net163am将持续推动技术创新和服务的不断优化，引领行业向着更高效、更智能、更可持续的方向迈进。
